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CEA-Leti 和英特爾優化混合直接鍵合、自組裝的die to wafer工藝

稿件來源:歐洲電子資訊 責任編輯:ICAC 發布時間:2022-08-18

  據歐洲電子資訊,法國研究機構CEA Leti和Intel公司優化了一種混合直接鍵合、自組裝工藝,可以提高裸片到晶圓(die-to-wafer,D2W)鍵合封裝技術。該技術利用了表面最小化原理產生的毛細管力(capillary forces)在目標晶圓上對準裸片,該工藝技術可以提高對準精度,并將制造吞吐量每小時提高數千個裸片。大多數液體的表面張力在20-50 mN/m之間,但水的表面張力為72.1 mN/m,這使其成為使用親水鍵的自組裝過程的最佳候選。 

  D2W混合鍵合工藝被視為在晶片基板上組合存儲器、HPC和光子芯片的關鍵,但它比晶圓到晶圓鍵合復雜得多,對準精度和裸片組裝吞吐量較低。

  幾年來,CEA Leti一直在開發一種自組裝方法,其目標是大幅提高吞吐量和放置精度。CEA Leti的3D集成項目經理Emilie Bourjot說:“D2W自組裝吞吐量提高至商業化規??朔伺c裸片處理相關的兩個主要挑戰。如果將自組裝過程與拾取和放置工具相結合,則可以通過減少對齊時間來提高吞吐量,因為精細對齊是通過液滴進行的。當自組裝與集體裸片處理解決方案相結合時,由于所有裸片在同一時間粘合在一起,而無需在工藝流程的任何時間進行任何高精度放置,從而提高了產量?!?/p>

  該研究成果發表在2022年電子元器件與技術會議(ECTC)上,論文題名“Collective Die-to-Wafer Self-Assembly for High Alignment Accuracy and High Throughput 3D Integration”。

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