奧地利EVG集團(半導體、微電子機械系統(MEMS)和納米技術應用的晶圓鍵合和光刻設備供應商)和以色列Teramount of Jerusalem公司(為數據中心、高級計算、傳感器和其他數據通信和電信應用提供將光纖連接到硅芯片的可擴展解決方案)正在合作實施晶圓級光學以解決硅光子學的一個主要障礙,即光纖芯片封裝。此次合作將利用EVG的納米壓印光刻(nanoimprint lithography technology)技術以及Teramount的PhotonicPlug技術。
經過此次合作,將利用EVG公司的納米壓印光刻技術對用于硅光子芯片的標準CMOS晶圓進行后處理,從而制造Teramount公司特有的自對準光學系統的反射鏡和透鏡等光學元件。這使得能夠靈活地從芯片中提取光束,并容易連接到大量光纖。此外,它還實現了晶圓級光學檢測能力,以增強硅光子學晶圓制造。
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