“28nm及先導工藝集成電路可制造性設計關鍵技術與應用” 榮獲中國電子學會科學技術獎二等獎
2019年4月20~21日，由工業和信息化部、中國科學技術協會、中國電子學會等聯合舉辦的第十四屆中國電子信息技術年會在合肥召開。微電子所陳嵐研究員帶領的團隊完成的“28nm及先導工藝集成電路可制造性設計關鍵技術與應用”項目榮獲中國電子學會科學技術獎二等獎。
“28nm及先導工藝集成電路可制造性設計關鍵技術與應用”項目由陳嵐研究員帶領的先進集成電路設計及EDA技術團隊完成，團隊面向國際發展前沿和國家重大需求，以集成電路設計重大應用問題為牽引，系統深入的研究了芯片設計與工藝協同的技術，CMP新型工藝精確建模技術，高性能版圖數據并行處理技術，基于物理知識庫的設計與工藝協同優化等DFM核心技術，形成了系統的技術體系，取得了先進納米工藝可制造性設計解決方案、快速大版圖數據處理算法、10多套PDK/iPDK/ePDK以及通用IP電路等系列原創性科技成果，已在國內龍頭企業進行應用驗證并獲得了高度評價，為我國先導工藝的應用推廣做出了重要貢獻。
相關研究工作得到了國家科技重大專項課題、國家自然科學基金項目和北京市科委項目、中科院等項目的資助。
