本屆國際先進光刻技術研討會被IEEE收錄

　　會議投稿論文將送檢IEEE Xplore與EI 

　　歡迎大家踴躍投稿報名！

　　摘要提交截止日期:  2021.07.01 

　　摘要接收通知日期:  2021.07.21

　　全文稿件截止日期:  2021.09.30

　　報 名 入 口

　　官網報名鏈接：

　　https://www.iwaps.org/cn/index/10 

　　或手機掃碼通過邀請函報名

　　論 文 征 集

　　IWAPS致力于發表前沿的微電子制造技術研究成果。會議主題涵蓋先進半導體制造領域中從早期的理論和實驗，到工業化大規模量產的應用等內容。包括但不局限于:

　　- 光刻

　　- 極紫外光刻

　　- 新型技術

　　- 量測及缺陷檢測

　　- 設計工藝聯合優化與可制造性設計

　　- 材料

　　- 器件

　　- 工藝

　　會議投稿請提交至郵箱：

　　iwaps_program@ime.ac.cn 

　　摘 要 要 求

　　摘要必須清楚地描述論文的性質、研究主題、研究內容、組織結構、要點以及研究意義。且用英文撰寫。

　　摘要必須包括以下內容：論文標題、關鍵詞、作者的姓名、所屬單位、郵件地址和通訊地址。摘要的字數不應超過500個單詞。對研究內容的細節的描述將增加稿件被接收的可能。同時，我們建議在提交的摘要中使用圖表。

　　論文摘要模板下載地址：

　　https://www.iwaps.org/index/10 

　　在截止日期之后提交的摘要將根據具體情況進行審議。

　　報 告 要 求

　　口頭報告

　　被選作進行口頭報告的作者，應當參加2021年的IWAPS 會議并用英文進行15分鐘與論文相關的技術報告。演講者應當預先提供其會議報告的PPT。

　　海報展示

　　被選作進行海報展示的作者，可于展示當日上午9點起張貼海報。展板上將印有按序排列的論文編號，請按論文編號將海報張貼在相應位置。會場將提供圖釘用于海報張貼。

　　會 議 介 紹

　　近年來，中國集成電路產業蓬勃發展，基于這樣的形勢，國際先進光刻技術研討會(International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS)應運而生。IWAPS為來自國內外半導體工業界、學術界的資深技術專家和優秀研究人員等提供了一個技術交流平臺，參會者可以就材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計優化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術挑戰。 

　　本屆國際先進光刻技術研討會已被IEEE收錄，會議全文將送檢IEEE Xplore與EI。