光刻機是半導(dǎo)體行業(yè)的明珠，美國希望在這個領(lǐng)域牢牢掌握主動權(quán)，因此對中俄等均進行嚴格的限制和制裁，中國一直沒有最先進的EUV光刻機，最近格科微引進的先進ArF光刻機也只是DUV的一種。而在俄烏沖突之際，昨天，美國更是對俄羅斯最大的芯片企業(yè)Mikron進行全方位制裁。近日，有消息稱：俄羅斯將研發(fā)當前全球最先進的EUV光刻機，或許比ASML的EUV光刻機性能更先進。

　　據(jù)報道，俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)承接了貿(mào)工部開發(fā)制造芯片的光刻機項目，該項目由俄羅斯政府首期投資6.7億盧布資金（約合5100萬元人民幣）。研發(fā)的光刻機計劃達到EUV級別，但技術(shù)原理完全不同，是基于同步加速器和/或等離子體源”的無掩模X射線光刻機。

　　“MIET已經(jīng)在無掩模EUV光刻領(lǐng)域取得了進展，包括與國內(nèi)其他科研機構(gòu)和科學(xué)家團體聯(lián)合開展的研究。該項目還將涉及 Zelenograd 公司 ESTO 和 Zelenograd 同步加速器，現(xiàn)在是國家研究中心庫爾恰托夫研究所的技術(shù)儲存綜合體 (TNK) Zelenograd。

　　“基于在該國運行和發(fā)射的同步加速器，特別是在 TNK Zelenograd 的同步加速器以及國內(nèi)等離子源的基礎(chǔ)上，創(chuàng)造技術(shù)和設(shè)備，將使處理具有設(shè)計標準的半導(dǎo)體晶片成為可能28 nm、16 nm 及以下，”聲明說。招標文件包含這項研究工作（研發(fā)）的要求。“無掩模X射線納米光刻技術(shù)和正在開發(fā)的設(shè)備在國內(nèi)和世界上都沒有類似物。”

　　工貿(mào)部與 MIET 簽訂的合同價格為 6.7 億盧布。

　　“我們談?wù)摰氖情L期的研發(fā)工作，從好的方面來說，這應(yīng)該在 15 年前就開始了，”關(guān)于這個項目的 Stimulus 雜志出版物的作者 Alexander Mechanik說。”

　　俄羅斯光刻機技術(shù)

　　目前，EUV光刻機全球只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計劃開發(fā)全新的EUV光刻機，使用的將是X射線技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片。

　　光刻機的架構(gòu)及技術(shù)很復(fù)雜，不過決定光刻機分辨率的主要因素就是三點，分別是常數(shù)K、光源波長及物鏡的數(shù)值孔徑，波長越短，分辨率就越高，現(xiàn)在的EUV光刻機使用的是極紫外光EUV，波長13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進工藝工藝。　　

　　技術(shù)優(yōu)勢

　　X射線光刻機使用的是X射線，波長介于0.01nm到10nm之間，比EUV極紫外光還要短，因此光刻分辨率要高很多。

　　此外，X射線光刻機相比現(xiàn)在的EUV光刻機還有一個優(yōu)勢，那就是不需要光掩模版，可以直寫光刻，這也節(jié)省了一大筆費用。

　　正因為有這么兩個特點，俄羅斯要研發(fā)的X射線光刻機優(yōu)勢很大，甚至被當?shù)氐拿襟w宣傳為全球都沒有的光刻機，ASML也做不到。

　　從相關(guān)資料來看，全球確實沒有能達到規(guī)模量產(chǎn)的X射線光刻機，不過這種技術(shù)并不是現(xiàn)在才有，不僅美國、歐洲研究過，國內(nèi)也有科研機構(gòu)做了X射線光刻機，只是生產(chǎn)芯片的效率跟ASML的光刻機不能比的，只適合特定場景。

　　不過俄羅斯在X射線及等離子之類的技術(shù)上有著深厚的基礎(chǔ)。

　　俄羅斯研發(fā)EUV的成功概率有多大？

　　俄羅斯的半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)并不發(fā)達，但是并不代表俄羅斯的科技能力差。眾所周知，俄羅斯擁有全世界最頂尖的數(shù)學(xué)人才，華為俄羅斯研發(fā)中心都聘請了數(shù)名頂尖俄羅斯數(shù)學(xué)家，坊間盛傳當年華為3G技術(shù)的突破就是得益于一位俄羅斯數(shù)學(xué)家“小哥”的SingleRAN 算法。

　　因此，盡管業(yè)界并不看好俄羅斯研發(fā)EUV光刻機的前景，但有著豐富技術(shù)人才的俄羅斯并不是不可能，況且，俄羅斯真金白銀投資6.7億盧布資金（約合5100萬元人民幣），對于發(fā)達國家來說雖然很少，但首期投入這么多資金，對于俄羅斯的薪資水平和試驗設(shè)備來說是不低的。

　　同時，筆者Challey認為，如果俄羅斯真的投入研發(fā)，很多其他國家，譬如中國，或許會加入俄羅斯的EUV光刻機研發(fā)之中，以打破歐美對于最先進芯片技術(shù)的壟斷。

　　但是，另一方面，據(jù)估計，自俄烏沖突以來，有多達7萬名計算機專家被突然出現(xiàn)的商業(yè)和政治氣候的冰霜所嚇倒并離開了俄羅斯。

　　或許，俄羅斯未來需要擔(dān)心的不是資金，而是人才能不能回流。

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