瑞士Eulitha公司已經啟動了新的PhableX系列光刻系統，用于量產光子器件，以滿足客戶不斷增長的需求。這些系統與Eulitha現有的PhableR系列使用相同的專有置換塔爾博特平版印刷（DTL）原理，不同的是PhableX基于全新開發的平臺，可實現高通量、自動運行。

　　許多新的光子設備都需要產生亞微米范圍內的特征尺寸，例如AR / VR眼鏡中的波導分布式反饋（DFB）激光器，電信光柵或光學生物傳感器等。Eulitha通過其專有的DTL技術滿足了這一不斷增長的需求，該技術可實現所需圖案的低成本平版印刷。DTL能夠在大面積上印刷免拼接圖案，因此特別適合滿足光子學行業的需求。該技術獲得專利的無焦點成像技術，可以在非平坦基材上進行均勻印刷。與競爭性的納米壓印光刻技術不同，DTL是一種非接觸式方法，可大大降低工藝復雜性，器件缺陷率和良率損失。

　　新的PhableX平臺提供了行業標準光源，包括i-line，KrF（248nm）和ArF（193nm）光源，具體取決于應用的分辨率要求。可以使用為制造半導體器件而開發的相同的最新光刻膠產品來打印介于60nm至幾微米之間的特征尺寸。該平臺目前可用于尺寸介于100mm至200mm之間的晶圓。主要的掩模制造商都可以提供針對DTL技術特定需求而開發的光掩模。PhableX模型的第一個示例已交付給選定的客戶，并收到了更多安裝的訂單。