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ASML明年將出貨30臺EUV光刻機 新一代設備產能提升24%

稿件來源: 責任編輯: 發布時間:2018-10-26

  臺積電前不久試產了7nmEUV工藝,預計明年大規模量產,三星今天宣布量產7nmEUV工藝,這意味著EUV工藝就要正式商業化了,而全球最大的光刻機公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。ASML公司日前發布2018年Q3季度財報,當季營收27.8億歐元,凈利潤6.8億歐元,出貨了5臺EUV光刻機,全年預計出貨18臺,明年將增長到30臺,而且明年下半年會推出新一代的NXE:3400C型光刻機,生產能力從現在的每小時125晶圓提升到155片晶圓以上,意味著產能提升24%。

  根據ASML公司的Q3季度財報,ASML的設備銷售營收20.81億歐元,安裝管理服務等業務營收6.95億歐元,當季營收27.76億歐元,同比增長13.4%,環比增長1%,不過毛利率達到了48.1%,同比增加5.2個百分點,環比也增加了4.8個百分點。

  Q3季度的光刻機銷售中,韓國公司占比33%,臺灣公司占比30%,大陸公司占比18%,前一個季度中大陸公司占比是19%,不過Q3季度中臺灣公司占比從18%增長到了30%,韓國公司占比從35%降至33%。

  在單機過億歐元的EUV光刻機方面,Q3季度ASML出貨了5臺EUV光刻機,上個季度出貨7臺EUV光刻機,預計Q4季度出貨6臺EUV光刻機,全年出貨的數量將達到18臺,而2019年EUV光刻機預計出貨數量達到30臺。

  明年除了EUV光刻機數量大漲之外,ASML公司明年下半年還將推出進一步改進的NXE:3400C光刻機,WPH(每小時處理的晶圓數量)產能將提升到155片,而現在的NXE:3400B型EUV光刻機的產能在合作伙伴的工廠中已經實現了125WPH的產能,NXE:3400C的產能預計再提升24%,這對改善EUV工藝的產能很有幫助。

  不過EUV光刻工藝今年正式量產只是一個開始,EUV光刻工藝目前離成熟還早呢,155WPH的產能可喜可賀,但是現在的沉浸式光刻機的產能可達250WPH,而且能以250W的光源長時間穩定運行,這些都是EUV光刻機暫時做不到的。

 

(來源:超能網  2018年10月19日)

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