近日，微電子所EDA中心韋亞一研究員團隊在計算光刻領域的兩篇綜述論文，分別聚焦對準套刻技術及光學鄰近效應修正技術，成功入選中國激光雜志社Researching刊群平臺推出的“2025年光學論文下載排行Top5”榜單。其中，《集成電路制造工藝波動與對準套刻技術（特邀）》在《光學學報（網絡版）》下載量排序第2；《基于模型的光學鄰近效應修正應用技術（特邀）》在《光學學報》下載量排序第4。獲獎證書見下圖。

韋亞一團隊此次入選的兩篇論文，通過深入探討對準套刻技術和光學鄰近效應修正技術的創新應用，為集成電路制造中的關鍵技術問題提供了積極的理論支持和實踐指導。相關論文得到了中國科學院先導項目、國家自然科學基金、中國科學院青年創新促進會等課題支持。

該榜單根據論文的綜合訪問量和下載量評選出最受關注的研究成果，旨在展示2025年度最受關注、最具影響力的科研成果。本期評選期刊為Advanced Photonics、Advanced Photonics Nexus、Photonics Research、High Power Laser Science and Engineering、Chinese Optics Letters、Photonics Insights、Advanced Imaging、《中國激光》、《光學學報》、《激光與光電子學進展》和《光學學報（網絡版）》。

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https://www.clp.ac.cn/News/Details?id=PT260201000016SxU1X