IWAPS為來自國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體工業(yè)界、學(xué)術(shù)界的資深技術(shù)專家和優(yōu)秀研究人員等提供了一個(gè)技術(shù)交流平臺(tái)，參會(huì)者可以就材料、設(shè)備、工藝、測(cè)量、計(jì)算光刻和設(shè)計(jì)優(yōu)化等主題分享各自的研究成果，研討即將面臨的技術(shù)挑戰(zhàn)。 

　　研討會(huì)的發(fā)言者均為特邀自集成電路制造相關(guān)領(lǐng)域的國(guó)內(nèi)外資深專家，代表了其所在領(lǐng)域的國(guó)際先進(jìn)水平。報(bào)告內(nèi)容涉及廣泛，涵蓋了當(dāng)前的技術(shù)現(xiàn)狀、未來的發(fā)展趨勢(shì)以及面臨的挑戰(zhàn)等。該研討會(huì)為想要了解更多國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體業(yè)界動(dòng)態(tài)的研究者和工程師提供更多機(jī)會(huì)?？紤]到當(dāng)前的實(shí)際情況，第六屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)將于2022年10月21日-22日舉辦，并采用線上的方式，歡迎免費(fèi)參會(huì)。 

　　本次會(huì)議由中國(guó)集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟，中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)，中國(guó)電子學(xué)會(huì)主辦；中國(guó)科學(xué)院微電子研究所，中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)光刻技術(shù)專業(yè)委員會(huì)承辦；廣東省大灣區(qū)集成電路與系統(tǒng)應(yīng)用研究院，南京誠芯集成電路技術(shù)研究院協(xié)辦；IEEE電氣和電子工程師協(xié)會(huì)提供支持。 

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