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通知公告

中國科學院微電子研究所顆粒清洗機改造項目

稿件來源: 發布時間:2021-09-22

  一、項目名稱 

  顆粒清洗機改造項目。 

  二、單一來源采購理由說明 

  中科院先導C 825項目對晶圓表面顆粒、金屬離子沾污均提出了很高的清洗要求。微電子所購置的單片清洗機(設備型號:SPVIIUltra C SAPS 230))已使用近10年,且本臺設備不具備顆粒清洗與金屬離子沾污清洗能力。因此,亟需對這臺設備進行針對性的升級,改造成顆粒清洗機。 

  在原單片清洗機硬件基礎上,升級顆粒清洗系統兩套,使晶圓表面經過清洗后,能實現硅片表面60nm以上顆粒數<150個(切后8英寸硅片110nm顆粒<3000個)的指標要求。方案如下:系統1通過增加交變相位移兆聲波(megapie)機構裝置及配套零部件、主機臺外操作面增加FFU(風機過濾機組)等手段提升設備的顆粒清洗能力;系統2通過加裝化學液循環槽、升級不同路化學液控制系統及更換部分老舊管路來提高金屬離子沾污的清洗能力。 

  本臺單片清洗機制造廠商為盛美半導體設備(上海)有限公司。該公司在顆粒清洗方面具有領先的技術實力,其12吋清洗設備已在中芯國際、長江存儲、合肥長鑫、韓國海力士等大型制造廠使用,是國內單片清洗設備的頭部企業。由于盛美半導體設備(上海)有限公司擁有本臺單片清洗機詳細的制造數據和升級改造經驗,可以更好的完成升級改造工作,故本臺單片清洗機的升級改造服務項目擬采用單一來源采購方式,由盛美半導體設備(上海)有限公司提供。 

  供應商:盛美半導體設備(上海)有限公司。公司地址:中國(上海)自由貿易試驗區蔡倫路1690號第4幢。 

  三、該次升級改造服務項目擬從盛美半導體設備(上海)有限公司采購。 

  四、征求意見期限從2021922日至2021928日止。 

  本項目公示期為2021922日至2021928日。有關單位和個人如對公示內容有異議,請在202192817:00(北京時間)之前以實名書面(包括聯系人、地址、聯系電話)形式反饋至中國科學院微電子研究所質量處,地址:北京朝陽區北土城西路3號,郵編:100029,聯系電話:82995527 

  

                                                                                                                                中國科學院微電子研究所 

                                                                                                                                  2021918

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