近期，由中國科學(xué)院微電子研究所、國科大微電子學(xué)院聯(lián)合創(chuàng)辦的國際全英文學(xué)術(shù)期刊《Journal of Microelectronic Manufacturing》（JoMM，國際標(biāo)準(zhǔn)期刊編號(hào)ISSN：2578-3769）成功出版了第三卷第一期。 

      本期專題文章如下： 

　　DFM: “Design for Manufacturing” or “Design Friendly Manufacturing” 

　　Wenzhan Zhou, Hung-Wen Chao, Yu Zhang, et al. 2020 JoMM Volume 3, Issue 1: 20030101 

 　　Key Process Approach Recommendation for 5 nm Logic Process Flow with EUV Photolithography 

　　Yushu Yang, Yanli Li, Qiang Wu, et al. 2020 JoMM Volume 3, Issue 1: 20030103 

　　JoMM 旨在發(fā)表集成電路制造領(lǐng)域中從基礎(chǔ)研究階段到工業(yè)大規(guī)模量產(chǎn)階段的研究成果，內(nèi)容包括但不限于Design、Process、Metrology & Yield Control、Packaging、Materials、Equipment 等方面。作為開放閱覽電子學(xué)術(shù)期刊，JoMM致力于實(shí)現(xiàn)快速發(fā)表，稿件錄用后即時(shí)上線，可閱覽、下載、引用。 

　　目前，JoMM正在進(jìn)行2020年征稿，并免版面費(fèi)，同時(shí)也在征集Special Issue的專題，以及歡迎新編委、同行評(píng)審專家加入JoMM，詳情請(qǐng)查看官網(wǎng)http://www.jommpublish.com/. 

　　歡迎投稿！