近年來，中國集成電路產業蓬勃發展，基于這樣的形勢，國際先進光刻技術研討會（International Workshop on Advanced Pattern Solution, IWAPS）應運而生。IWAPS為來自國內外半導體工業界、學術界的資深技術專家和優秀研究人員提供了一個技術交流平臺，參會者可以就集成電路制造工藝、設備、材料、測量、計算光刻和設計優化等多個主題分享成果，探討解決方案，并研討即將面臨的技術挑戰。 

　　作為國內唯一的高端光刻技術研討會，其發言者均為特邀自光刻及其相關領域的國內外資深專家，代表了其所在領域的國際先進水平。報告內容涉及廣泛，涵蓋了當前的技術現狀、未來的發展趨勢以及面臨的挑戰等。該研討會旨在為與會者提供一個深入討論的互動平臺，也為想要了解更多國內外半導體屆動態的研究者和工程師提供跟多機會。 

　　本屆IWAPS會議將于2019年10月17-18日在南京金陵江濱酒店舉辦，由集成電路產業技術創新聯盟和中國光學學會主辦，中國科學院微電子研究所和南京浦口高新技術產業開發區承辦，IEEE南京分會提供技術支持。 

　　可用微信掃描二維碼進行報名，亦可登錄官網進行報名。 

　　會議官網：www.iwaps.org/cn 

　　會議官方微信公眾號：光刻人的世界 

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