一、項目名稱 

　　中國科學(xué)院微電子研究所65nm NOR Flash掩膜加工單一來源服務(wù) 

　　二、單一來源采購理由說明 

　　中國科學(xué)院微電子研究所 “低維信息器件”項目旨在解決65nm NOR Flash存儲器的關(guān)鍵技術(shù)，推動核心芯片的實用化。由于芯片采用數(shù)字、模擬、高壓混合工藝，同時集成SPI數(shù)據(jù)接口，電路工作速度快，可靠性要求高，對于晶體管匹配度、模型準(zhǔn)確性都提出了更高要求，同時要求代工平臺工藝穩(wěn)定。 

　　上海華力微電子有限公司的65nm ETOX工藝屬于十分成熟的工藝，已經(jīng)成功量產(chǎn)20多款產(chǎn)品，為近10家客戶提供整套29層FLASH掩膜制版加工服務(wù)，掩膜版最小工藝尺寸達(dá)到65納米要求，在性能和質(zhì)量上均能滿足項目要求。由于Flash工藝的定制化要求，掩模板必須與加工工藝流程及相應(yīng)的層次邏輯運算規(guī)則相匹配，因此需要基于上海華力微電子有限公司平臺完成掩模版加工。 

綜上，按照項目任務(wù)書需求，目前滿足科研需求的廠家僅有上海華力微電子有限公司1家，因此采用單一來源方式采購產(chǎn)品。 

　　三、該項目擬從上海華力微電子有限公司進(jìn)行采購。 

　　四、征求意見期限從2019年1月22日至2019年1月28日止。 

　　本項目公示期為2019年1月22日至2019年1月28日和個人如對公示內(nèi)容有異議，請在2019年1月28日15:00（北京時間）之前以實名書面（包括聯(lián)系人、地址、聯(lián)系電話）形式反饋至中國科學(xué)院微電子研究所，地址：北京朝陽區(qū)北土城西路3號，郵編：100029，聯(lián)系電話：82995706。  

                                                                                  中國科學(xué)院微電子研究所 

　　                                                                                     2019.01.22