9月29日，由中科院微電子所先導中心籌辦的“集成電路先導技術系列研討會—先進光刻”研討會第一次會議成功舉辦。此次會議包括“新型光刻及EUV光刻技術”和“計算光刻及EUV光刻仿真技術”兩個主題，微電子所所長助理、先導中心主任、系列研討會總負責人王文武研究員進行會議致辭，科技處李平處長出席。會議由韋亞一研究員主持并介紹會議背景，簡要介紹了中科院微電子研究所的歷史、架構、人才培養、科研方向和研究成果，以及中國科學院集成電路創新研究院（籌）的籌建思路、未來規劃和任務使命，著重闡述了在先進光刻技術研發方向的未來研究趨勢和研討會主題。 

　　中國科學院大學副校長楊國強研究員、清華大學許軍教授、中科院上光所王向朝研究員、北京理工大學李艷秋教授、北京航空航天大學錢建強教授、中科院光電院周翊研究員、中科院理化所李嫕研究員、中科院長光所王麗萍研究員、上海微電子裝備（集團）股份有限公司段立峰總監、上海集成電路研發中心伍強副主任、徐州博康信息化學品有限公司毛國平副總經理、復旦大學熊詩圣教授、北京燕東微電子有限公司劉曉靖副總經理、北京理工大學馬旭教授、東方晶源微電子科技有限公司施偉杰副總經理、廣東工業大學沈逸江副教授、北京華大九天軟件有限公司劉曉明經理等專家學者參加了本次研討會。 

　　楊國強研究員做了《超過精細光刻膠的研發》報告，對我國在EUV光刻膠的研發成果進行了概述并對未來研發進行了展望。段立峰總監做了《研制EUV光刻膠的機會和挑戰》報告，回顧了國際上EUV光刻機發展的歷史、研制的關鍵技術和難點，在技術和組織上對未來研發提出了策略和建議。毛國平副總經理做了《實現中高端光刻膠的國產化——博康集團的努力》報告，從企業研發視角、結合國際上知名企業和高校的聯合研發特點，對我國光刻膠的研發提出了參考和借鑒的模式。復旦大學熊詩圣教授做了《十納米以下嵌段共聚物導向自組裝光刻技術》報告，探討了如何利用化學預圖案引導嵌段高分子共聚物的自組裝，與300毫米先導線的兼容問題及其應用。馬旭教授做了《基于壓縮感知的快速計算光刻技術》報告，將自適應壓縮感知方法應用于計算光刻領域，提出了一種基于線性壓縮感知的快速光刻系統光源優化方法，以及基于非線性壓縮感知框架的快速光學鄰近效應修正方法。施偉杰副總經理做了《摩爾定律的助力劑：計算光刻的歷史、趨勢與挑戰》報告，在介紹的計算光刻歷史與發展趨勢基礎上，探討了“深度光刻”的概念和深度掩模優化的研發實踐。沈逸江副教授做了《基于窄帶水平集和半隱式加性算子分裂的光學臨近校正》報告，引入了窄帶水平集算法和半隱式加性算子分裂等方法，對反向光刻算法的準確性、計算效率和收斂性進行了研究探討。 

　　會議在創新研究院未來發展，特別是EUV光刻和光刻工藝仿真方向進行了深度技術探討和交流，與會專家積極發言，建言獻策，在未來研發、院校合作、企業產學研合作、基礎研究與應用研究、前瞻性與基礎性、研究與平臺等方面暢所欲言，對中科院集成電路創新研究院的發展提供了非常有價值的建議。

參會嘉賓合影 

王文武致辭 

韋亞一歡迎致辭及會議主持 

邀請嘉賓報告（楊國強研究員、段立峰總監、毛國平副總、熊詩圣教授、馬旭教授、施偉杰副總、沈逸江副教授） 

會議討論