2月9日，常州瑞擇微電子科技有限公司董事長兼總經理徐飛來微電子所作學術交流，并作了題為《光掩模制造、清洗及清洗設備》的報告。三室副主任謝常青研究員主持報告會，全所科研人員、研究生共40余人參加了報告會。 

　　徐飛在報告中詳細介紹了光掩模制造流程、光掩模清洗工藝和光掩模清洗設備。掩模是微納加工技術的基準，是連接設計與制造之間的橋梁與紐帶，掩模制造水平直接決定了微電子/光電子和微納加工的精度與質量。光掩模制作技術大體上可分為傳統的刻圖縮微制版技術系統、計算機輔助設計、光學圖形發生器自動制版技術系統和以電子束掃描成像為代表的各種短波長射線成像曝光技術系統。光掩模版的質量是影響集成電路功能和芯片成品率的重要因素之一。為保證光掩模版的質量，必須進行嚴格控制掩模缺陷密度、掩模版精度和圖形質量，而清洗則影響掩模缺陷密度。徐飛簡要介紹了常州瑞擇微電子科技有限公司的清洗工藝和特色設備，并就光掩模的制造、清洗等同與會人員進行了交流。 

　　徐飛于2007年入選常州市第一批引進領軍型海外留學歸國創業人才項目，同年，回國創建了常州瑞擇微電子科技有限公司，擔任董事長兼總經理。他主持包括國家科技重大專項02專項在內的多項科研項目，自主研發的130納米級光掩模清洗設備等打破了國外壟斷，填補了國內空白，技術指標均已達到甚至超過國際領先水平。