9月14日， EDA工具廠商Mentor公司代表團訪問了微電子所及中科院EDA中心，雙方就進一步加強合作進行了座談。

　　會議特別邀請Mentor公司大客戶項目經(jīng)理張淑雯做主題報告，詳細介紹了65nm及以下工藝制程面臨的挑戰(zhàn)以及Mentor提供的DFM相關(guān)解決方案。中國科學院EDA中心陳嵐主任出席并主持了本次會議，Mentor公司亞太區(qū)技術(shù)總監(jiān)Andrew先生、中芯國際DFM部門負責人張立夫博士以及聲學所、自動化所、計算所等EDA中心會員單位也參加了本次交流會。

　　交流會上，張淑雯女士首先介紹了65nm及以下工藝芯片制造時遇到的各種隨機和系統(tǒng)波動，包括particle所引起的短路斷路、光刻和化學機械拋光所帶來的工藝偏差等問題。這些問題隨著關(guān)鍵尺寸的縮小而變得越發(fā)嚴重，已經(jīng)無法通過簡單的設(shè)計規(guī)則約束來避免。因此，芯片可制造性的問題，逐步轉(zhuǎn)移到了上游設(shè)計者的手中，在設(shè)計完成前就要考慮其在指定工藝條件下，是否能具有較高的加工良率。Mentor Graphics提供了一整套的DFM解決方案，包括關(guān)鍵區(qū)域分析（CAA）工具、光刻友好設(shè)計（LFD）工具、化學機械拋光（CMP）模擬工具和ESD分析工具等。這些工具都是通過了代工廠所提供大量silicon data的驗證，為芯片設(shè)計者提供了一個可靠的虛擬平臺來提前檢驗自身設(shè)計，大大縮短芯片的加工周期和進入市場的時間。例如，CMP模擬分析結(jié)合Smart-Fill工具可以有效解決化學機械拋光中遇到的平坦性問題，ESD分析工具PERC提供了包括Pin-to-Pin Resistance和Current density等方面的電路可靠性分析。作為Mentor重要合作伙伴單位的中芯國際，其DFM部門負責人張立夫博士還介紹了SMIC65/45nm流程中的DFM相關(guān)內(nèi)容。

　　會后，Andrew先生還與EDA中心的部分技術(shù)人員進行了小范圍的討論交流。