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當前位置 首頁 人才隊伍
  • 姓名： 霍樹春
  • 性別： 男
  • 職稱： 副研究員
  • 職務： 
  • 學歷： 博士
  • 電話： 
  • 傳真： 
  • 電子郵件： huoshuchun@ime.ac.cn
  • 所屬部門： 光電技術研發中心
  • 通訊地址： 北京市朝陽區北土城西路3號

    簡　　歷：

  • 教育背景?

    2012.09-2017.01 天津大學儀器科學與技術專業，博士?

    2014.12-2015.11 奧地利林茨大學實驗物理研究所，聯合培養博士生
    ?
    工作簡歷

    2021.05-今 中國科學院微電子研究所，副研究員?

    2018.05-2021.04 天津大學精密儀器與光電子工程學院，博士后?

    2017.06-2018.4??成都工業學院機械工程學院，講師?

    2011.08-2012.02 北航電磁兼容技術研究所，軟件工程師

    社會任職：

  • 1. 中國計量測試學會計量儀器專業委員會
    2. 中國光學學會光電專委會委員
    3. 原子級制造論壇青年工作委員會委員

    研究方向：

  • ?集成電路光學測量技術及精密儀器

    承擔科研項目情況：

  • 1.國家重點研發計劃項目，課題“晶圓級自動厚度驗證裝置及鍵合晶圓測量應用”，課題負責人，2022.11-2025.10

    2.國家重點研發計劃項目，“復雜微結構三維光學顯微測量儀”，子課題負責人，2021.12-2024.11

    3.國家重點實驗室開放課題，“深硅刻蝕結構幾何參數光學無損測量方法研究”，課題負責人，2021.09-2023.09

    4.國家重點研發計劃項目，“硅基MEMS高深寬比結構多模式光學測量技術”，子任務/骨干，2020.01-2022.12

    5.國家重點研發計劃項目，“硅通孔三維集成質量與可靠性評價關鍵技術研究”，子任務，2024.03-2027.02

    6.國家重點研發計劃項目，課題“批量測試與調理技術”，子任務，2022.12-2025.11

    7.國家重點研發計劃項目，課題“片上納米幾何量與電學量計量技術應用示范”，子任務，2022.10-2025.11


    代表論著：

  • ?1)?S.C.Huo, H. Wang, C.G. Hu*, C.Y. Yao, W.F. Shen, X.D. Hu, X.T. Hu. Measuring the Multilayer Silicon based Microstructure Using Differential Reflectance Spectroscopy. Optics Express, 2021, 29(3): 3114-3122.

    2)?Chunguang Hu, Hao Wang, Yongtao Shen, Shuchun Huo*, Wanfu Shen, Xiaodong Hu and Xiaotang Hu, 

    Imaging layer thickness of large-area graphene using reference-aided optical differential reflection technique. 

    Optics Letters, 2020, Vol. 45 No. 15

    3)?Chunguang Hu, Hao Wang, Shuchun Huo*, Wanfu Shen, and Xiaotang Hu, Rapid reflectance difference 

    microscopy based on liquid crystal variable retarder, Journal of Vacuum Science & Technology B, 37, 050604 

    (2019)

    4)?C.G. Hu*, S.C. Huo, W.F. Shen, Y.N. Li, X.T. Hu. Reflectance difference microscopy for nanometre 

    thickness microstructure measurements. Journal of Microscopy, 2018, 270(3): 318-325.

    5)?S.C. Huo, C.G. Hu*, W.F. Shen, Y.N. Li, L.D. Sun, X.T. Hu. Normal-incidence reflectance difference 

    spectroscopy based on a liquid crystal variable retarder. Appl. Opt., 2016, 55(33): 9334-9340.

    6)?Chengyuan Yao, Shuchun Huo*, Wanfu Shen, Zhaoyang Sun, Xiaodong Hu, Xiaotang Hu, Chunguang Hu, Assessing the quality of polished brittle optical crystal using quasi-Brewster angle technique, Precision Engineering, 2021, Vol. 72, pp 184-191.

    專利申請：

  • 1.霍樹春，胡春光，王浩，胡曉東，胡小唐，測量納米薄膜厚度的顯微式差分反射光譜測量系統及方法，發明

    專利，CN111336932B

    2.霍樹春，胡春光，王浩，沈萬福，姚程源，曲正，武飛宇，胡曉東，胡小唐，用于納米厚度SiO2厚度的差分反射光譜測量方法，發明專利，CN111076668B

    獲獎及榮譽：