(1)“九五”國(guó)家重點(diǎn)科技項(xiàng)目97-762“0.1-0.35微米集成電路關(guān)鍵技術(shù)研究”的子專題97-762-03 “先進(jìn)的深亞微米工藝技術(shù)”;
(2)科學(xué)院重大創(chuàng)新方向性項(xiàng)目“電子束縮小投影光刻機(jī)(SCALPEL)”的子課題“投影電子束掩模研制”;
(3)科技部863項(xiàng)目“多傳感器及陣列傳感器集成”;
(4)科技部863項(xiàng)目“無(wú)掩模光刻系統(tǒng)”;
(5)科技部863項(xiàng)目;
(6)自然基金儀器專項(xiàng)“新型光學(xué)讀出非制冷紅外成像系統(tǒng)”;
(7)自然基金“懸臂梁微尖端陣列器件加工及應(yīng)用技術(shù)研究”;
(8)中科院知識(shí)創(chuàng)新方向性項(xiàng)目。
2003年“0.1-0.35微米集成電路關(guān)鍵技術(shù)研究”獲北京市科技進(jìn)步一等獎(jiǎng)
人才隊(duì)伍