在4月20—21日召開的第十四屆中國電子信息技術年會上，微電子所 “28納米及先導工藝集成電路可制造性設計關鍵技術與應用”項目榮獲中國電子學會科學技術獎二等獎。 

　　“28納米及先導工藝集成電路可制造性設計關鍵技術與應用”項目由EDA中心陳嵐研究員領銜的先進集成電路設計及EDA技術團隊完成，團隊面向國際發展前沿和國家重大需求，以集成電路設計重大應用問題為牽引，系統深入的研究了芯片設計與工藝協同的技術，CMP新型工藝精確建模技術，高性能版圖數據并行處理技術，基于物理知識庫的設計與工藝協同優化等DFM核心技術，形成了系統的技術體系，取得了先進納米工藝可制造性設計解決方案、快速大版圖數據處理算法、10多套PDK/iPDK/ePDK以及通用IP電路等系列原創性科技成果，已在國內龍頭企業進行應用驗證并獲得了高度評價，為我國先導工藝的應用推廣做出了重要貢獻。 

　　相關研究工作得到了國家科技重大專項課題、國家自然科學基金項目和北京市科委項目、中科院等項目的資助。